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Asahi Spectra宽带NIR-AR

产品时间:2019-02-22

简要描述:

Asahi Spectra宽带NIR-AR
开发的真空沉积技术,如离子辅助沉积(IAD),离子束溅射(IBS),实现硬涂层的环境(湿度,低或高的温度,热冲击或真空)的优良的耐用性和稳定性光谱性能。

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 Asahi Spectra宽带NIR-AR

  • 低反射性并覆盖大部分NIR波段
    R平均值 < 1.5% ,0.9 - 2.5 um
  • 它可以配置于熔融石英,硅,蓝宝石,或其它IR型基板
  • 优良的环境耐久性
    符合MIL规范
    采用离子辅助沉积的AR膜具在恶劣的环境下具有良好的耐久性。​

与传统的AR涂层不同的是,Asahi的宽带NIR-AR可以覆盖到前所未有的范围,即0。9-2。5微米。

它可以匹配多种IR型基板,如熔融石英、硅、蓝宝石或其他材料。宽带NIR-AR可以匹配各种尺寸的基盘与透镜。

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